随着中国半导体产业的迅速发展，光刻胶作为半导体制造核心流程的关键材料，其重要性日益凸显。光刻胶不仅在光刻工艺中起到防腐蚀的保护作用，而且对光刻精度至关重要。本文将深入探讨光刻胶的特性、市场需求、进口流程及相关法规。

光刻胶，也称为光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，主要由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂组成。它在微电子技术中扮演着关键角色，主要应用于电子工业和印刷工业领域。2021年，全球光刻胶市场规模达到66.41亿美元，显示出其在半导体材料制造中的重要地位。

中国已成为全球最大的半导体市场，随着5G、消费电子、汽车电子等下游产业的发展，对光刻胶的需求持续增长。然而，国内光刻胶技术与国际先进水平存在差距，自给率仅约10%，主要集中在技术含量较低的产品。市场主要由日本和美国企业控制，这为中国半导体产业带来了“卡脖子”的困境。

光刻胶属于三类危险品，进口时需提供《进口危险化学品企业符合性声明》。

对于需要添加抑制剂或稳定剂的产品，应提供相关说明。

提供中文危险公示标签和中文安全数据单的样本。

根据海关总署2020年第20号公告，光刻胶归类为税号3707.90。

海关对列入《危险化学品目录》的进出口危险化学品实施检验。

含有γ-丁内酯的光刻胶进口需提供《两用物项和技术进口许可证》。

光刻胶作为半导体产业的关键材料，其进口流程和法规的理解对于保障产业链的稳定至关重要。